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《微電子千級潔凈室振動隔離技術深度解析》

作者: 點擊:1357 發布時間:2025-06-19


光刻機要求環境振動速度≤1μm/s。某晶圓廠采用:①160mm厚混凝土浮筑地板(固有頻率≤8Hz);②空氣彈簧隔震器(隔振效率≥95%);③設備基座加裝惰性塊(質量比1:1.5),終將振動控制在0.7μm/s